Ochranná polomaska NANOLOGIX RESPIRA COMPACT s vyměnitelným nanovláknovým filtrem třídy P2 proti virům a bakteriím
Popis
Ochranná polomaska NANOLOGIX RESPIRA COMPACT s vyměnitelným nanovláknovým filtrem třídy P2 proti virům a bakteriím
Spolehlivá obličejová polomaska nové generace s využitím nanovláknové technologie pro maximální filtrační účinnost, spolehlivou funkčnost a vysokým komfortem dlouhodobého použití.
Unikátní vyměnitelný nanovláknový filtr Nano Perfection P2 dovoluje mnohonásobné použití ve vyšší třídě ochrany FFP2. Životnost filtru je více než 30 dnů.
Neobsahuje výdechový ventil!
Pomocí snadno vyměnitelných filtrů účinně chrání proti proti bakteriální a virové nákaze a je vhodná pro mnohonásobné používání. Mění se pouze filtry podle potřeby. 
Konstrukce polomasky je na základě antropometrické studie lidského obličeje se zaměřením na evropskou populaci přizpůsobena velikostí morfometrických rozměrů obličeje dospělého člověka.
Optimalizací tvarů jednotlivých dílů a využití speciálního pružného typu zdravotnického silikonu přiléhají dosedací plochy k obličeji a dokonale tak těsní na rozhraní pružné části polomasky a obličeje.
Maximální flexibilita silikonu dovoluje rovnoměrné rozložení tlaku, kterým působí lícnice na obličej a umožňuje tím komfortní užívání i při dlouhodobém nošení.
Použitý materiál má vysokou chemickou odolnost, minimální sklon k trvalým deformacím, umožňuje skladování polomasky ve složeném stavu v baleních o malých rozměrech, je extrémně odolný vůči stárnutí a neztrácí svou pružnost a tím značně prodlužuje životnost polomasky.
Tuhá část polomasky sloužící k upnutí filtru je vyrobena z vysoce výkonného termoplastického polymeru, který je vyztužen vlákenným plnivem pro zvýšení pevnosti a mechanického zatížení.
Chrání proti ve vzduchu se vyskytujícími biologickými agens (koronaviry, enzymy), radioaktivními aerosoly, prachem, pyly, mlhou, kouřem, kancerogenními látkami, kapénkami a postřikem (typ IIR).
Hypoalergenní provedení, neobsahuje latex.
Vhodné pro dlouhodobé nošení pro profesionální i domácí použití.
výhody:
- Vyšší a ještě lepší ochrana než je klasický stupeň FFP2
- Zabraňuje dlouhodobě účinně bakteriální a virové nákaze
- Chrání před koronaviry, enzymy, radioaktivními aerosoly, prachem, pyly, mlhou, kouřem, kancerogenními látkami, kapénkami a postřikem
- Mnohonásobné použití
- Obličejové provedení polomasky spolehlivě chrání nos i ústa
- Nízký odpor při dýchání
- Dokonale těsní a přizpůsobí se tvaru obličeje
- Výměnný nanovláknový filtr s velkou filtrační kapacitou
- Tlak vydechovaného vzduchu regeneruje filtrační vložku a prodlužuje její životnost
- Snadná a intuitivní výměna filtru bez nutnosti sejmutí polomasky z obličeje
- Nastavitelné rychloupínací pásky
- Hypoalergenní a nedráždivé
- Neobsahuje latex
- Bez výdechového ventilu
- Životnost filtru více než 30 dnů
- Dlouhodobé a pohodlné nošení
- Unisex univerzální velikost
Certifikace:
- Polomaska: ČSN EN 1827:2000+A1:2009 Polomasky bez vdechovacích ventilů a svyměnitelnými filtry na ochranu proti plynům nebo proti plynům a částicím nebo pouze proti částicím. Požadavky, zkoušení a značení (idt. EN 1827:1999+A1:2009)
- Vyměnitelný Filtr: ČSN EN 143:2001, Změna A1:2006 Ochranné prostředky dýchacích orgánů. Filtry proti částicím. Požadavky, zkoušení, značení(idt. EN 143:2000, EN 143:2000/A1:2006)
údržba polomasky a životnost filtru:
Dezinfekce masky: UV zářením, ozonem, ponořením do lihové dezinfekční lázně, postřikem dezinfekčním roztokem, teplem do 100 stupňů Celsia.
Dezinfekce filtru: UV zářením, ozonem, ponořením do lihové dezinfekční lázně, postřikem dezinfekčním roztokem, teplem do 80 stupňů Celsia.
Doporučujeme maximálně cca 10 dezinfekčních cyklů.
UPOZORNĚNÍ: Před dalším použitím musí být filtrační materiál dokonale vysušený.
ŽIVOTNOST FILTRU: cca 30 dnů a více, záleží na délce používání a prostředí. Pokud bude dýchání obtížné, je třeba filtr vyměnit.
BARVA: černá s oranžovými prvky
Obsah balení:
- 1 ks Polomaska
- 1 ks Výměnný filtr Nano Perfection P2
Vyrobeno v České republice
Související produkty
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.